Микросхемы Toshiba
09.07.2008На конференции IEDM (International Electron Devices Meeting) компанией Toshiba была представлена базовая технология микросхем флэш-памяти. Структура микросхемы Toshiba флэш-памяти получила обозначение SONOS (Silicon Oxide Nitride Oxide Semiconductor). Главным нововведением являются два туннельных слоя оксида (tunnel layer) толщиной всего 1 нм. Чтение и хранение данных, высокая скорость процессов записи/чтения, осуществляется за счет тонкого 1-нм слоя кристаллического кремния. Параметры работы флэш-памяти улучшаются благодаря слою нитрида кремния Si9N10, заменившего SONOS слой Si3N4.



info@uralchip.ru
+7 (343) 379-82-19
+7 982 630-31-58